如果您對(duì)該產(chǎn)品感興趣的話,可以
產(chǎn)品名稱:
代理AMAYA天谷制作所晶圓的常壓CVD設(shè)備
產(chǎn)品型號(hào):
A6300S
產(chǎn)品展商:
日本AMAYA天谷制作所
折扣價(jià)格:
0.00 元
關(guān)注指數(shù):83
產(chǎn)品文檔:
無相關(guān)文檔
AMAYA株式會(huì)社天谷制作所A6300S
常壓CVD裝置，準(zhǔn)備了滿足顧客需求的產(chǎn)品陣容。同時(shí)，定做也對(duì)應(yīng)。
對(duì)應(yīng)于半導(dǎo)體制造用、太陽(yáng)能電池制造用等各種用途。從少量生產(chǎn)到大量生產(chǎn)
形成SiO2、BPSG、BSG、PSG等各種膜種
采用SiC托盤防止重金屬污染，從低溫（200℃）到中溫（500℃）區(qū)域可以廣泛成膜
代理AMAYA天谷制作所晶圓的常壓CVD設(shè)備
的詳細(xì)介紹
日本AMAYA株式會(huì)社天谷制作所
量產(chǎn)6英寸以下小直徑晶圓的常壓CVD設(shè)備
A6300S
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6 英寸 吞吐量為每小時(shí) 120 張
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采用SiC托盤防止重金屬污染的對(duì)策
特征
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這是一種連續(xù)常壓CVD系統(tǒng)，可滿足小直徑晶圓批量生產(chǎn)設(shè)備的需求，實(shí)現(xiàn)每小時(shí)120片晶圓的吞吐量。
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該設(shè)備通過運(yùn)輸系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)批量生產(chǎn)，該系統(tǒng)*大限度地減少了為實(shí)現(xiàn)各種薄膜沉積區(qū)域而開發(fā)的分散頭和托盤的數(shù)量，并降低了成本。
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使用SiC托盤很難發(fā)生重金屬污染。 此外，可以獲得穩(wěn)定的工藝性能，而由于熱引起的老化很小。
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標(biāo)配自動(dòng)托盤更換功能，實(shí)現(xiàn)工人**，縮短維護(hù)時(shí)間。 此外，自動(dòng)抬起頭部底座的機(jī)構(gòu)便于清潔。
性能
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均勻的薄膜厚度
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≦±4.0%
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支持的晶圓尺寸
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≦6英寸
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氣體種類
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SiH4， O 2， PH3， B 2 H6， N 2
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薄膜沉積溫度
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350°C~450°C
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生產(chǎn)力
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120 頁(yè)/小時(shí)
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主要規(guī)格
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設(shè)備尺寸
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1500毫米（寬） x 2850毫米（深） x 2000毫米（高）
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加熱機(jī)構(gòu)
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電阻加熱
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裝載卸載
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機(jī)器人 CtoC 運(yùn)輸
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分散頭（氣體噴嘴）
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A63 頭（標(biāo)準(zhǔn) 2 頭）
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