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產(chǎn)品資料
產(chǎn)品[

反射式膜厚量測(cè)儀[產(chǎn)品打印頁面]

]資料
如果您對(duì)該產(chǎn)品感興趣的話,可以 產(chǎn)品名稱: 反射式膜厚量測(cè)儀
產(chǎn)品型號(hào): cp-002
產(chǎn)品展商: OTSUKA大冢光學(xué)
折扣價(jià)格: 0.00 元
關(guān)注指數(shù):558
產(chǎn)品文檔: 無相關(guān)文檔

簡(jiǎn)單介紹

產(chǎn)品特點(diǎn) 非接觸式、不破壞樣品的光干涉式膜厚計(jì)。 高精度、高再現(xiàn)性量測(cè)紫外到近紅外波長(zhǎng)反射率光譜,分析多層薄膜厚度、光學(xué)常數(shù)(n:折射率、k:消光系數(shù))。 寬闊的波長(zhǎng)量測(cè)范圍。(190nm~1100nm) 薄膜到厚膜的膜厚量測(cè)范圍。(1nm~250μm) 對(duì)應(yīng)顯微鏡下的微距量測(cè)口徑。

反射式膜厚量測(cè)儀

   的詳細(xì)介紹

產(chǎn)品特點(diǎn)

  • 非接觸式、不破壞樣品的光干涉式膜厚計(jì)。
  • 高精度、高再現(xiàn)性量測(cè)紫外到近紅外波長(zhǎng)反射率光譜,分析多層薄膜厚度、光學(xué)常數(shù)(n:折射率、k:消光系數(shù))。
  • 寬闊的波長(zhǎng)量測(cè)范圍。(190nm~1100nm)
  • 薄膜到厚膜的膜厚量測(cè)范圍。(1nm~250μm)
  • 對(duì)應(yīng)顯微鏡下的微距量測(cè)口徑。

量測(cè)項(xiàng)目

  • 透過率?反射率測(cè)量
  • 膜厚測(cè)量

產(chǎn)品規(guī)格

型號(hào) 標(biāo)準(zhǔn)型 厚膜專用型
樣品大小 *大200mm×200mm×7(厚度)mm
可測(cè)層數(shù) *1  
膜厚范圍 1nm~40μm 0.8μm~210μm 1μm~240μm 80μm~1mm
波長(zhǎng)范圍 190nm~760nm 230nm~800nm 330nm~1100nm 430nm~970nm 750nm~850nm 900nm~1600nm 1490nm~1590nm
 測(cè)試單元  CCD  CCD  CCD  PDA  PDA InGaAs InGaAs
膜厚精度 ±0.1nm(以NIST認(rèn)證的標(biāo)準(zhǔn)樣品為依據(jù))*2
重復(fù)性精度(2.1σ)    
  膜厚測(cè)試(Si基板上的SiO膜 100nm未滿:0.1nm*3
100nm以上:0.07%
  反射率測(cè)試(Si基板) 230nm~250nm:0.8%*4
250nm~800nm:0.4% *4
800nm~1050nm:0.8%*4
測(cè)試光斑*5 φ40μm<×5倍>、φ20μm<×10倍>、φ10μm<×20倍>、φ6.6μm<×30倍>、φ5μm<×40倍>
對(duì)物鏡頭 反射式對(duì)物鏡頭倍數(shù):×10倍、×20倍、×30倍、×40倍
折射式對(duì)物鏡頭(可視):×5倍、×10倍、×20倍
測(cè)試光源 D 2(紫外光)、I 2(可見光)、D 2 +I 2(紫外-可見光)
XYZ stage 自動(dòng)stage   手動(dòng)stage
行程 X:200mm、Y:250mm、Z:10mm   X:200mm、Y:250mm、Z:10mm
重復(fù)性精度 2μm<0.5μm>   -
驅(qū)動(dòng)分辨率 1μm<0.1μm>   -
     尺寸·重量 481(W)mm×770(H)mm×714(D)mm約96kg   427(W)mm×770(H)mm×725(D)mm約88kg
控制單元 自動(dòng)stage   手動(dòng)stage
尺寸·重量  300(W)mm×710(H)mm×450(D)mm約34kg    300(W)mm×380(H)mm×450(D)mm約18kg
電源 規(guī)格  AC100V±10V   750VA    AC100V±10V   500VA
軟件  
測(cè)試 手動(dòng)測(cè)試/連續(xù)測(cè)試/制圖測(cè)試(mapping)/測(cè)試與計(jì)算同步功能
解析 非線性*小二乘法/波峰波谷解析法/FFT解析法/*適化法
基板解析/里面反射補(bǔ)正/各類nk解析模型式
**反射率/解析結(jié)果Fitting/折射率n的波長(zhǎng)相關(guān)性/消光系數(shù)k的波長(zhǎng)相關(guān)性
3D顯示功能(面內(nèi)膜厚分布、鳥窺圖、等高線、斷面圖)
系統(tǒng)維護(hù) 材料文件構(gòu)建(database管理)、硬件的各種設(shè)定
其它 樣品對(duì)焦的數(shù)值顯示功能、自動(dòng)對(duì)焦功能(自動(dòng)stage有此功能)、內(nèi)部反射補(bǔ)正功能
數(shù)據(jù)處理
數(shù)據(jù)處理 臺(tái)式電腦、顯示器、打印機(jī)

*1具體請(qǐng)咨詢本公司。
*2以VLSI公司的標(biāo)準(zhǔn)樣品(100nm SiO2/Si)范圍值保證書為依據(jù)。
*3量測(cè)VLSI公司的標(biāo)準(zhǔn)樣品(100nm SiO2/Si)同一點(diǎn)位時(shí)之重復(fù)性。(2.1倍σ)
*4具體參照相關(guān)保證書。
*5鏡頭為選配件,具體請(qǐng)咨詢本公司。

應(yīng)用范圍

■ FPD
?LCD、TFT、OLED(有機(jī)EL)
■ 半導(dǎo)體、復(fù)合半導(dǎo)體
?矽半導(dǎo)體、半導(dǎo)體雷射、強(qiáng)誘電、介電常數(shù)材料
■ 資料儲(chǔ)存
?DVD、磁頭薄膜、磁性材料
■ 光學(xué)材料
?濾光片、抗反射膜
■ 平面顯示器
?液晶顯示器、薄膜電晶體、OLED
■ 薄膜
?AR膜
■ 其它
?建筑用材料

量測(cè)范圍

玻璃上的二氧化鈦膜厚、膜質(zhì)分析

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